作為制作光伏電池和集成電路的基礎(chǔ)，硅片能用干冰清洗機進行清洗嗎？電子行業(yè)清洗的效果直接影響到光伏電池和集成電路最終的性能、效率和穩(wěn)定性。由于硅材料的清潔度不夠，出現(xiàn)問題甚至失效的比例達到50%，因此有必要對硅片的清洗工藝進行優(yōu)化。

 

ICS干冰清洗機|高效 環(huán)保 應(yīng)用廣泛

 

硅片可以用干冰清洗嗎？

當溫度超過31.1℃，壓力達到7.38mpa時，CO2處于超臨界狀態(tài)，可以實現(xiàn)氣固轉(zhuǎn)換。二氧化碳通過噴嘴突然從氣缸中噴出，壓力下降，體積迅速膨脹，二氧化碳的恒定焓發(fā)生變化。二氧化碳的氣液混合物產(chǎn)生固體干冰顆粒，從而實現(xiàn)硅片的清洗。干冰顆粒去除顆粒物和有機物雜質(zhì)的機理不同。

在去除顆粒雜質(zhì)時，干冰顆粒與顆粒雜質(zhì)彈性碰撞，產(chǎn)生動量傳遞，顆粒雜質(zhì)被高速氣流粉碎帶走。當有機雜質(zhì)被去除時，干冰顆粒與有機物發(fā)生非彈性碰撞，干冰顆粒液化并包裹有機物離開硅片表面，然后凝固并被高速氣流帶走。提出了一種新的干冰顆粒噴霧清洗技術(shù)，采用5N純度、8Mpa CO2氣源壓力、11mpa噴嘴壓力等清洗參數(shù)，最終獲得了良好的清洗效果。

干冰清洗機干冰顆粒清洗技術(shù)是一種理想的清洗技術(shù)，對硅片表面無損傷，不會污染環(huán)境。